致领公司所代理的法国LAM PLAN 系类抛光布广泛应用于 半导体，金属，陶瓷，玻璃，水晶，蓝宝石等各个行业。LAM PLAN抛光布有多种不同的材质，既可以用于对半导体、晶体或玻璃等材质进行化学抛光，也可以用于搭配钻石液对密封件、陶瓷、各种金属零件进行机械抛光，使用LAM PLAN抛光布作金相试验也是其典型的应用之一；我们可以根据客户设备的不同提供各种直径的LAM PLAN抛光布,较大直径可达59英寸,(1500mm)
类型 Type | 材质 Material | 特点 Characteristics | 效果 Performance |
9415 | 抛光层：塔夫绸 基层： 坚固聚酯 | 适用于对硬质或半硬质材料的半精加工; 搭配油基或水基钻石液对工件进行抛光加工，在大部分情况下可代替研磨，可以获得更好的平面度和表面粗糙度。 | 抛光率 ●●●●○ 平面度 ●●●●○ 光洁度 ●○○○○ |
9451 | 抛光层：缎布 基层：防水柔性支撑 | 适用于所有材料的抛光，搭配使用钻石抛光液可以获得好的平面度。 | 抛光率 ●●●○○ 平面度 ●●●●○ 光洁度 ●●○○○ |
9450 | 抛光层：缎布 基层：防水柔性支撑 | 适用于所有材料的抛光，搭配钻石抛光液使用，背胶易粘贴和移除。 | 抛光率 ●●●○○ 平面度 ●●●○○ 光洁度 ●●○○○ |
9432 | 抛光层：中硬度植绒 基层：防水柔性支撑 | 适用于对硬质或中硬度材质的精细抛光，搭配钻石抛光液使用获得好的表面光洁度。 | 抛光率 ●○○○○ 平面度 n.a. 光洁度 ●●●●○ |
9437 | 抛光层：软质植绒 基层：防水柔性支撑 | 适用于对中硬度材料进行精细的抛光加工，搭配细的钻石抛光液可获得较好的表面光洁度。 | 抛光率 n.a 平面度 n.a. 光洁度 ●●●●○ |
9431 | 抛光层：软质植绒 基层：半柔性防水支撑 | 适用于对超软的材料进行精细的抛光加工，搭配细的钻石抛光液可获得较好的表面光洁度。 | 抛光率 n.a 平面度 n.a. 光洁度 ●●●●● |
CAMEO Blanc | 抛光层：缎布 基层：坚硬胶垫 | 精细加工于液质2-3微米（浮法）生物浮钻的所有材质。坚硬胶垫，易粘合易剥离。 | 抛光率 ●●○○○ 平面度 ●●○○○ 光洁度 ●●●○○ |
CAMEO Noir | 抛光层：柔软双密度 基层：坚硬胶垫 | 精细加工于液质1微米（浮法）生物浮钻的所有材质。坚硬胶垫，易粘合易剥离。 | 抛光率 n.a. 平面度 ●○○○○ 光洁度 ●●●●● |
CAMEO Gris | 抛光层：非织物 基层：坚硬胶垫 | 精细加工于液质L1 or L2（浮法）的有色金属。坚硬胶垫，易粘合易剥离。 | 抛光率 ●○○○○ 平面度 ●○○○○ 光洁度 ●●●●● |
AQUA BLACK | 抛光层：树脂绒布 基层：压敏胶 | 用于半导体及光学的精细抛光加工，搭配胶体二氧化硅抛光液，表面粗糙度可以达到0.2nm或更细。 | 抛光率 n.a. 平面度 ●○○○○ 光洁度 ●●●●○ |
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